中国全抄艾司摩尔 仍大幅落后 关键原因是…
未知 2026-02-07 07:55
路透日前披露,中国为突破美国半导体技术封锁,秘密进行“中国曼哈顿”计划,透过逆向工程,成功打造制造先进半导体的极紫外光机(EUV)原型机。 路透进一步披露,负责打造EUV原型机的艾司摩尔(ASML)前工程师皆以变造的身分工作,而未能取得德商蔡司(Carl Zeiss)的光学系统,是该原型机大幅落后艾司摩尔EUV的关键原因。
两名知情者说,一名被招聘从事该计划的前ASML华裔资深工程师,惊讶发现他除了丰厚的签约奖金,还有一张化名身份证。 当他进入深圳戒备森严的实验室开始从事该计划后,认出其他前ASML同事,他们也以假名工作。 另一人独立证实,招聘来的科学家取得假身份证,以向内部其他工作人员隐匿身分。
