荷媒强调，ASML 的秘密武器就是蔡司的镜子，蔡司是 ASML 光学系统的唯一供应商。现今市面上所有新款手机与电脑设备中最强大的芯片，毫无例外都是由 ASML 的设备生产，这些设备若缺乏蔡司的光学技术，根本无法运作。
荷兰《电讯报》（De Telegraaf）报道，在德国南部的小镇奥伯科亨（Oberkochen），隐藏著荷兰半导体设备巨头 ASML 能在未来几年维持霸权地位的最重要筹码，那就是与光学专家蔡司（Carl Zeiss AG）的深度合作。在追求效率的荷兰人催促下，德国人正不断挑战物理学极限，投入一场研发更精微技术、打造更强大芯片的全球竞赛。
为了制造先进芯片，最先进的 ASML 曝光机使用了波长仅 13.5 奈米的极紫外光（EUV）。尽管中国此前宣称已成功复制 ASML 的 EUV，打造出EUV原型机，但光学系统依然是中国最难以跨越的障碍。
蔡司半导体光学元件制造总裁亨舍（Christoph Hensche）指出：“ASML 的设备能将芯片图案缩小到什么程度，很大程度上取决于光学系统提升解析度的能力。这意味著，我们的反射镜就是整个系统的心脏。”
在蔡司总部的展示柜中，一个 EUV 反射镜样本看起来平凡无奇。然而，它的物理精度比一般浴室镜子高出 5万倍。在实际的 ASML 设备中，包含多面这类反射镜，其中最大的一面直径达 1.2 米，重量达 400 公斤。
亨舍生动地描述这种极致精度，他说，“这意味著，我们能透过这面反射镜，利用雷射光精准击中月球上的一颗高尔夫球。”
报道提及，蔡司与 ASML 的战友关系始于 1980 年代，当时 ASML 刚从飞利浦（Philips）独立。1990 年代，当 ASML 决定投入数亿欧元于当时商业前景不明的 EUV 技术时，蔡司也义无反顾地加入。
亨舍回忆：“我们共同经历了许多艰难时刻，特别是 2008 年金融海啸前后，但我们总能找到解决方案。”他认为，德国式的“严谨”与 ASML “务实”的文化互补得很好。他强调，“ASML 天生更愿意承担风险，而我们则倾向深入分析、稳扎稳打。但我们最终还是选择共同冒险，因为双方都知道，产品必须在正确的时间推向市场，通常是愈快愈好。”
为了巩固这段关系，ASML 于 2016 年斥资 10 亿欧元收购了蔡司半导体业务24.9% 的股份。目前 ASML 第二代 EUV 曝光机的核心改进，便仰赖蔡司技术的持续突破，特别是提升光学系统的数值孔径（NA）。
虽然下一代技术“Hyper-NA”已在规划中，但亨舍强调，光学系统的改良并非全部。ASML 在光源、组件精度与系统设计上同样投入巨大努力。
对于“ASML 离不开蔡司，但蔡司理论上可以离开 ASML”的观点，亨舍坦言理论上虽然成立，但蔡司并不想离开 ASML。他强调，双方非常珍惜这段长期的合作伙伴关系，以及共同创造的商业奇迹。
蔡司半导体制造部门位于奥伯科亨的总部。图片：蔡司
